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升降式光化學反應儀JP-GHX-XF1

型號:

產品時間:2025-05-06

簡要描述:

●光源控制器。
●雙層石英冷阱,可通入冷卻水循環以避免光源溫度過高受損。
●調節升降臺高度調節光照強度。
●反光罩可使樣品充分接受光照。
●冷卻水循環裝置制冷量:800W。
●冷卻水循環裝置設有底部排液閥。

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詳細介紹

光化學反應儀主要特征:
●光源控制器。
●雙層石英冷阱,可通入冷卻水循環以避免光源溫度過高受損。
●調節升降臺高度調節光照強度。
●反光罩可使樣品充分接受光照。

●冷卻水循環裝置制冷量:800W。

●冷卻水循環裝置設有底部排液閥。


光化學反應儀技術參數:
★久平光源控制器,可供汞燈(1000W或500W、400W、300W、250W)、氙燈(1000W或500W、300W)、金鹵燈(500W)等多種光源使用。
★雙層石英冷阱,可通入冷卻水循環以避免光源溫度過高受損
★調節升降臺高度調節光照強度。
★ 反光罩可使樣品充分接受光照。
光化學反應儀產品配置:
久平專用光源控制器JP-GHX-XF1:1臺,石英冷阱:1只,燈:1支(汞燈、氙燈、金鹵燈 可選)
反光罩一個,升降臺一個,支架一個,冷卻水循環裝置:1臺
選配:擋光罩、暗箱


 


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